Unsere Forschungsgruppe
Wir entwickeln dünne Oberflächen (einige Nanometer (1nm = 10-9m) bis einige 100nm Schichtdicke) mittels Physical Vapour Deposition (PVD, Elektronenstrahlverdampfen und Sputtern), Spin-Coating und Dip-Coating Verfahren. Lithography- und Ätzprozesse erlauben uns, Oberflächen im Mikrometerbereich zu strukturieren. Für diese Arbeiten steht uns ein Reinraum der Klasse ISO 6 zur Verfügung.